电感耦合等离子体刻蚀系统及其刻蚀控制方法
专利号：CN115020173B
成果方：江苏邑文微电子科技有限公司; 无锡邑文电子科技有限公司
成果类型：发明授权
发明人：高阔; 孙文彬
授权日：2022-10-28
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本申请提供一种电感耦合等离子体刻蚀系统及其刻蚀控制方法，系统包括：总控模块、晶圆传送模块和多个刻蚀工艺模块；刻蚀工艺模块包括刻蚀腔体、真空单元和状态监测单元，真空单元包括分别通过第一和第二真空气路与刻蚀腔体连接的干泵和分子泵，各刻蚀工艺模块中的第一和第二真空气路分别通过第一和第二应急真空气路互相连接；总控模块用于接收各刻蚀工艺模块的状态监测单元反馈的状态信息，并向晶圆传送模块和各刻蚀工艺模块发送控制指令，能够在目标刻蚀工艺模块真空单元故障的情况下利用其它刻蚀工艺模块通过应急真空气路对其抽真空，在目标刻蚀工艺模块其它单元故障的情况下控制各刻蚀工艺模块协同工作，最大限度提高晶圆刻蚀加工效率。